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News Center等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗/刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。等離子清洗機處理工藝可以實現有選擇的表面改性：●活化：大幅提高表面的潤濕性能，形成活性的表面●清洗：去除灰塵和油污，精細清洗...
真空加熱腔體是用來提供超高真空環境的設備。在超高真空環境下，科學研究的對象不會受到環境中雜質的影響，所以超高真空廣泛應用于表面研究、分子束外延（MBE）生長、電子能譜儀、粒子加速器等領域中。這種真空腔體是為減少了半導體應用中真空腔的個數而研發的，而晶圓容量幾乎不變。這種結構采用了配備有壓差真空凹槽的預置空氣軸承的移動真空。產品的特點有改善的機臺定位的靜態、動態響應，抽氣時間、穩定時間縮短等。真空加熱腔體主要用于分子束外延薄膜生長及測量。一般而言，腔體呈橢球、圓柱形等，在其柱壁...
真空探針熱臺能方便、準確、快速地找到放置在安裝臺上的樣品上所需要測試點，比如三極管的基區、發射區等，將探針臺上的探針和測試點可靠接觸，將配套測試儀器上設置的測試條件通過探針加到被測試管芯上，實現對管芯參數測試的目的。在半導體芯片的生產和研制過程中，需要對芯片樣品的各項參數進行過程測試和終端測試，完成測試所需的測試對準設備是探針臺。真空探針熱臺探針臺希望在上片后無需人工對準，就能從晶圓的一個晶粒(一點)開始檢測，晶圓上片后，探針下方的開始位置往往并不是一點；為了讓一點快速的移至...
氣體溫度控制儀具有非線性、時變性、大時滯和多擾動的特點，針對多溫度控制目標的需求，多目標風量配比控制的適應環境溫度變化的優化串級控制結構，減小了環境溫度擾動對溫度穩定性的影響，解決了多控制目標不能同時滿足溫度指標的問題，并采用“灰色”辨識的方法獲得了氣體溫度控制系統的模型參數。該儀器是一種經濟型的智能工業調節儀表，廣泛應用于機械、化工、陶瓷、輕工、冶金、石化、熱處理等行業的溫度、流量、壓力、液位等的自動控制系統。氣體溫度控制儀主要特點：1.熱電偶、熱電阻、模擬量、頻率脈沖等多...
根據高新區管委會《關于鄭州高新區2020年度科技創新企業政策兌現的決定》《關于鄭州高新區2020年度高成長企業政策兌現的決定》《關于鄭州高新區2020年度金融機構、科技型企業和多層次資本市場企業政策兌現的決定》等多項政策兌現文件，高新區兌現獎補政策共2.5億余元，直接惠及企業特別是中小微企業兩千余家。河南省國家大學科技園（東區）自成立以來，一直秉承把園區建設好、產業集聚好、企業培育好、優質資源集聚好的理念，致力于打造科技企業孵化器完善的孵化服務體系、營造科技產業和企業棲息生長...
等離子清洗機在清洗時進入工作氣體在電磁場的作用下所激發的等離子與物體外表產生物理反應和化學反應，物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗外表，使污染物脫離外表終被真空泵吸走，進而達到清洗目的?；瘜W反應機制是多種活性的粒子和污染物反應轉化成易揮發性的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質。使用等離子體清洗可以很容易清除掉生產過程中所形成的這些分子水平的污染，保證工件表面原子與即將附著材料的原子之間緊密接觸，從而有效地提高引線鍵合強度，改善芯片粘接質量，減少封裝漏氣率，提高元器件的性能、成品率...
等離子清洗機常用的氣體有氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等，它是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理，無論是進行清洗還是表面活化，為達到好的處理效果會選用不同的工藝氣體。等離子清洗機的表面粗化又稱表面刻蝕，其目的是提升材料表面的粗糙度，以增加粘接、印刷、焊接等工藝結合力，經處理后的表面張力會明顯提升?；钚詺怏w所產生的等離子體也可以增加表面的粗糙度，但氬氣電離后產生的粒子相對較重，氬離子在電場的作用下的動能會明顯高于活性氣體，所以其粗化效果會更加明顯，在...
微型真空探針臺是一個低成本不需要低溫制冷劑的探針臺，它可以對器件進行非破壞性的測試，它可以對材料或器件的電學特性測量、光電特性測量、參數測量、highZ測量、DC測量、RF測量和微波特性測量提供一個測試平臺。x-y向工作臺是微型真空探針臺中核心的部分，該產品的故障很多是維護保養不當或盲目調整造成的，所以對該產品的維護與保養就顯得尤為重要。平面電機由定子和動子組成，它和傳統的步進電機相比其特殊性就是將定子展開，定子是基礎平臺，動子和定子間有一層氣墊，動子浮于氣墊上，而可編程承片...
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